<표> 삼성전자 국내외 반도체 사업장 및 연도별 시설투자
◇ 국내외 반도체 사업장 현황
┌─────────────────┬─────────────────┐
│국내│해외│
├────────┬────────┼────────┬────────┤
│기흥사업장│시스템LSI/LED 생│미국│시스템LSI 생산│
││산 라인│오스틴│라인│
│ (1983년 착공)││││
││면적: 약 43만평 │ (1996년 착공)│면적: 약 22만평 │
│││││
├────────┼────────┼────────┼────────┤
│화성사업장│메모리 반도체│중국│메모리 반도체│
││생산라인│시안│생산 라인│
│ (2000년 착공)││││
││면적: 약 48만평 │ (2012년 착공)│면적: 약 42만평 │
│││││
├────────┼────────┼────────┼────────┤
│온양사업장│조립/검사 라인│중국│조립/검사 라인│
│││쑤저우││
│ (1991년 착공)│면적: 약 13만평 ││면적: 약 3만평│
│││ (1995년 착공)││
│││││
├────────┼────────┼────────┼────────┤
│평택사업장│메모리/시스템LSI│중국│LED 생산라인│
││생산라인│텐진││
│ (2015년 착공)│││면적: 약 2만평│
││면적: 약 85.5만 │ (2009년 착공)││
││평│││
└────────┴────────┴────────┴────────┘
◇ 연도별 반도체 시설투자 이력
┌─────┬─────┬─────┬─────┬─────┬─────┐
│구분│2010│2011│2012│2013│2014│
├─────┼─────┼─────┼─────┼─────┼─────┤
│금액(조원)│12.73│13.03│13.85│12.6│14.3│
└─────┴─────┴─────┴─────┴─────┴─────┘
(평택=연합뉴스)
[저작권자ⓒ 부자동네타임즈. 무단전재-재배포 금지]
